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氧化釩薄膜沉積、 高真空吸氣薄膜沉積、
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無錫尚積是一家國產薄膜沉積工藝和刻蝕工藝設備的生產制造商,專注于國產化率較低的半導體特色細分領域。近年來團隊陸續開發了MEMS領域的氧化釩薄膜沉積、高真空吸氣薄膜沉積;SiCPower領域HotAl,背金金屬濺射和RF領域的濺射等核心技術,打破了國外公司壟斷地位
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