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氧化釩薄膜沉積、 高真空吸氣薄膜沉積、
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無錫尚積是一家國產(chǎn)薄膜沉積工藝和刻蝕工藝設(shè)備的生產(chǎn)制造商,專注于國產(chǎn)化率較低的半導(dǎo)體特色細(xì)分領(lǐng)域。近年來團隊陸續(xù)開發(fā)了MEMS領(lǐng)域的氧化釩薄膜沉積、高真空吸氣薄膜沉積;SiCPower領(lǐng)域HotAl,背金金屬濺射和RF領(lǐng)域的濺射等核心技術(shù),打破了國外公司壟斷地位
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